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正硅酸乙酯28廣東省潮州市有實力公司

2021-04-10 10:46:13   潛江宜生新材料有限公司


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涉水型次氯酸鈉溶液
急救措施
皮膚接觸:脫去污染的衣著,用大量流動清水沖洗。
眼睛接觸:提起眼瞼,用流動清水或生理鹽水沖洗,就醫。
吸入:迅速脫離現場至空氣新鮮處。保持呼吸道通暢。如呼吸困難,給輸氧。如呼吸停止,立即進行人工呼吸,就醫。
食入:飲足量溫水,催吐,就醫。


化工新材料



氯甲基甲基二氯硅烷(YS-60)
化學式: C2H5CL3SI
分子量:163.5
執行標準:Q/YS60-01-2019
性狀:本品為無色透明揮發液體,沸點:121.5℃,密度(ρ20 ℃)g/cm3 1.277
用途: 醫藥中間體及硅烷偶聯劑中間體
包裝貯存:成品以10L、20L、200L塑料桶包裝,其他規格需預定。



廣東省潮州市化工新材料推薦閱讀 半導體材料硅和鍺的化學制備.   2.硅烷的提純 低溫精餾, 吸附法(分子篩,活性炭)
分子篩是一種鋁硅酸鹽,又稱沸石.內部有很多小孔, 利用小孔直徑與分子大小的不同,使大小形狀不同的分 子分開.
3.硅烷的熱分解 溫度:800℃ SiH4=SiH2+H2 ⑴ SiH2=Si+H2
如何提高熱分解效率?
溫度不能太低
產物H2應及時排除
兩種方法的比較
?三氯硅烷法(SiHCl3)
?利用了制堿工業中的副產物氯氣和氫氣,成本低, 效率高 ?三氯硅烷遇水會放出腐蝕性的氯化氫氣體,腐蝕設 備,造成Fe、Ni等重金屬污染三氯硅烷
?硅烷法(SiH4)
?消耗Mg,硅烷本身易燃、易爆 ?去除硼雜質有效,對不銹鋼設備沒有腐蝕性,生產 的硅質量高
安全 問題!!!!
1-3 鍺的富集與提純
1-3-1鍺的資源與富集
1.資源
煤及煙灰中 煤:10-3%~10-2 % 煙灰: 10-2%~10-1 %
金屬硫化物 ZnS,CuS等, 10-2%~10-1 %
鍺礦石中 硫銀鍺礦
39 % 鍺石 6 % ~10 % 黑硫銀錫礦
2.鍺的富集
火法
加熱鍺礦物,揮發掉部分砷,鉛,銻,鎘等物質,殘留下鍺 的氧化物,叫鍺富礦(鍺精礦)
水法 ZnS →ZnSO4 ↓ →殘液 → 鍺→鍺精礦
1-3-2 高純鍺的制取
? 原料
鍺礦、煤煙灰、晶體管廠回收的鍺粉屑、鍺單晶 的頭尾、碎片等
? 步驟
?粗制四氯化鍺的生成 ?粗制四氯化鍺的提純 ?由高純四氯化鍺得到高純二氧化鍺 ?由高純二氧化鍺得到高純鍺
1.粗制GeCL4的生成 GeO2+4HCL= GeCL4 +2H2O 同時雜質砷生成AsCL3,
如何除去?
將AsCL3變成難揮發的砷酸,留在蒸餾釜中
若在上面這個反應中加入MnO2, MnO2+4HCL=MnCL2+2H2O+CL2
生產的氯氣繼續氯化三價砷,使其成為砷酸
2. GeCL4的提純
在上述制備的GeCL4中還有一些As,Si,Fe,AI等的氯 化物,其中AsCL3**難除掉.
提純方法:
萃取法,精餾法 利用AsCL3 ,GeCL4在鹽酸中的溶解度不同來分離
3. GeCL4的水解
? 由高純四氯化鍺得到高純二氧化鍺
Ge(OH)4= GeO2+2H2O 總方程式: GeCL4+4H2O= GeO2. 2H2O+4HCL
4. GeO2氫還原
? 由高純二氧化鍺得到高純鍺

物理性質比較
原子序數
顏色 介電常數ε 禁帶寬度(室溫) 本征電阻率(?.cm) 電子遷移率(cm2/V.s) 空穴遷移率(cm2/V.s)
銀白色金屬光澤 11.7
灰色 16.3 0.67eV 46 3900 1900
作業
? 比較三氯氫硅氫還原法和硅烷法制備高純硅 的優缺點?
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化工新材料


硅和鍺的化學制備.   3.硅烷的熱分解
溫度:800℃
如何提高熱分解效率?
溫度不能太低
產物H2應及時排除
兩種方法的比較
?三氯氫硅氫還原法(SiHCl3)
?利用了制堿工業中的副產物氯氣和氫氣,成本低,效率 高
?三氯硅烷遇水會放出腐蝕性的氯化氫氣體,腐蝕設備, 造成Fe、Ni等重金屬污染三氯硅烷
?硅烷法(SiH4)
安全
?消耗Mg,硅烷本身易燃、易爆
問題!!!!
?去除硼雜質有效,對不銹鋼設備沒有腐蝕性,生產的硅
質量高
1.3 鍺的富集與提純
1.3.1 鍺的資源與富集
1.資源
煤及煙灰中
煤:10-3%~10-2 %
煙灰: 10-2%~10-1 %
金屬硫化物
ZnS,CuS等, 10-2%~10-1 %
黑硫銀錫礦
2.鍺的富集
火法
加熱鍺礦物,揮發掉部分砷,鉛,銻,鎘等物質,殘留下鍺的 氧化物,叫鍺富礦(鍺精礦)
水法 ZnS →ZnSO4 ↓ →殘液 → 加丹寧絡合沉淀
鍺→鍺精礦(含鍺量在10%之內)
1.3.2 高純鍺的制取
?原料
鍺礦、煤煙灰、晶體管廠回收的鍺粉屑、鍺單晶的 頭尾、碎片等
?步驟
?粗制四氯化鍺的生成 ?粗制四氯化鍺的提純 ?由高純四氯化鍺水解得到高純二氧化鍺 ?由高純二氧化鍺氫還原得到高純鍺
1.粗制GeCL4的生成 G同e時O雜2+質4H砷C生L=成GAesCCLL43+, 2H2O如何除去?
將AsCL3變成難揮發的砷酸,留在蒸餾釜中
若在上面這個反應中加入MnO2, MnO2+4HCL=MnCL2+2H2O+CL2
生產的氯氣繼續氯化三價砷,使其成為砷酸
2. GeCL4的提純
在上述制備的GeCL4中還有一些As,Si,Fe,AI等的氯化 物,其中AsCL3**難除掉.
提純方法:
萃取法,精餾法 利用AsCL3 ,GeCL4在鹽酸中的溶解度不同來分離
3. GeCL4的水解
? 由高純四氯化鍺得到高純二氧化鍺
GeCL4+4H2O=Ge(OH)4+4HCL Ge(OH)4= GeO2+2H2O 總方程式: GeCL4+4H2O= GeO2+2H2O+4HCL
3. GeO2氫還原
由高純二氧化鍺得到高純鍺
GeO2+2H2= Ge+2H2O(溫度650 ℃) 實際的反應:
防止GeO在700 ℃ 以上因顯著揮發而 消失
思考一
? 比較三氯氫硅氫還原法和硅烷法制備高純硅 的優缺點?
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